氯化氫的純度直接決定了氯化氫的應用領域。高純度氯化氫要求純度大于99.999%，總雜質含量小于5ppm，可以應用于電子工業(yè)中半導體材料生產企業(yè)在單晶硅片氣相拋光、外延基座腐蝕和硬質合金鍍膜工藝中使用。

    要保證純度合格，必須嚴格控制氯氫處理各控制點保證H2、CL2含水指標達到要求減少對合成爐燈頭是否腐蝕。2、H2、CL2壓力的影響：為了保證生產安全平穩(wěn)運行，我們工藝要求進入合成爐的H2壓力不低于80Kpa但不大于85KPa。主要是保證高的H2壓力可以給操作工爭取在H2急劇下降的情況下爭取調節(jié)的時間。而如果H2壓力 高于85Kpa時，H2就會在氫氣分配臺自動排空，造成浪費。CL2壓 力運行中我們一般保持在140Kpa左右平穩(wěn)運行，過低HCL純度達不到要求太高就會自動走事故氯系統(tǒng)。所以保證HCL氣體純度高且 安全穩(wěn)定的另外一個非常主要的前提是H2、CL2壓力平穩(wěn)無太大的 波動。3、CL2與H2配比的影響：經處理后合格的CL2與H2經過流量計、 調節(jié)閥與切斷閥在合成 爐石英燈頭處進行燃燒生成HCL氣體。按照理論CL2和H2完全燃 燒是按照摩爾質量1:1完全發(fā)生反應，而PVC實際生產要求HCL氣 體中不能含有游離氯 （因為微量的游離氯能與乙炔氣迅速的發(fā)生反應 生成具有爆炸性的氯乙炔氣體引發(fā)事故） ，所以在實際生產中我們要求H2過量于CL2 0.05--0.1摩爾體積，保證產品氣HCL中不含有游離氯。在實際操作過程中，需嚴格要求DCS操作工準確熟練地及時根據H2、CL2的壓力來調節(jié)進合成爐的兩種氣體配比，確保生產安全的前提下保證HCL純度。4、其它原因影響：除了上述提出的主要影響因素外，影響HCL純度的其它因素還有儀表流量計自控閥的準確度和其它工序生產波動等諸多原因。

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